Hellma CaF 2氟化钙用于紫外的光学材料

Hellma  CaF 2氟化钙用于紫外的光学材料

CaF 2用于紫外/可见光/红外应用的光学材料

Hellma Materials CaF 2 多年来一直被用作半导体生产微光刻中的光学关键材料。CaF 2 被确立为投影和照明光学器件中准分子激光光学器件的行业标准材料。CaF 2的光学特性可实现各种高级应用。

应用领域

由于其好的光学质量以及在紫外、可见光和红外光谱范围内出色的透射率

Hellma Materials CaF 2 可用于多种应用：

红外光学器件

天文仪器光学

天基光学

显微镜光学器件

光谱光学

紫外光学

激光窗

准分子激光光学

微光刻光学

氟化钙单晶由高纯度原材料生长而成，是 248 和 193 nm 微光刻技术中照明和投影光学所需的材料。Hellma Materials 的专业知识允许制造直径高达 440 毫米、厚度超过 100 毫米且最高厚度的 CaF 毛坯。传输波长低至 157 nm。

主要质量特性包括： 

优异的紫外线透射率 

高激光耐久性 

低应力双折射 

高折射率均匀性

优点

Hellma Materials 的Lithotec ® CaF 2具有奇特的光学特性：

从深紫外到红外（130nm 到 8μm）的高宽带透射率

低折射率（n d  = 1.43384）

低光谱色散 (v d  = 95.23)

准分子激光光学元件（157nm、193nm、248nm）具有出色的激光耐久性

合格的抗高能粒子和辐射能力

直径可达 420 毫米

CaF 具有高的激光耐久性，使其成为光刻准分子激光光学器件、光束传输以及各种其他应用中所有准分子波长的首要选择材料。

合成氟化钙晶体完善了从 VUV 到 IR 的光学材料应用范围，在 130 nm 到 9 pm 范围内具有非常好的透射率。

氟化钙色校正光学系统在天文学、摄影、HDTV 变焦镜头中也能实现光学性能的优势。如在显微镜中，进一步的应用是传感器（尤其是红外光谱）、光谱仪和医用激光器。

Hellma Materials 提供具有不同晶体取向 [<111>、<100>、随机或其他要求] 的 CaF、组件和毛坯，以及不同的表面质量（原始、切割研磨或抛光），具体取决于个人要求。

Hellma  CaF 2氟化钙用于紫外的光学材料